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BG-406系列曝光机（光刻机）主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准及曝光。该系列曝光机由4英寸、6英寸单/双面曝光机组成，可实现单/双面对准、单面曝光、间隙曝光、全曝光。
主要技术特点
对准工作台
对准精度高，漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩模版使用寿命。
曝光系统
采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
分离视场显微镜
在X、Y方向通过操作杆可实现大范围扫描观察，可进行单视场或双视场切换，提高对准效率和套刻精度，同时兼容CCD成像液晶显示功能。
控制系统
电气控制采用工控机，人机界面操作菜单清晰，操作方便，汞灯电源易于触发，可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造，提高了设备的稳定性、可靠性，同时提供个性化服务。