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中电科集团公司第四十五研究所

晶圆颗粒生产加工服务;集成电路专用设备、电子元器件设备及光电器件设备、电子工业...

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光刻机
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产品: 浏览次数:246光刻机 
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有效期至: 长期有效
最后更新: 2018-06-11 11:27
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详细信息

BG-406系列曝光机(光刻机)主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准及曝光。该系列曝光机由4英寸、6英寸单/双面曝光机组成,可实现单/双面对准、单面曝光、间隙曝光、全曝光。

主要技术特点


对准工作台
对准精度高,漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平,找平力小,延长掩模版使用寿命。
曝光系统
采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球镜等精密光学件,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
分离视场显微镜
在X、Y方向通过操作杆可实现大范围扫描观察,可进行单视场或双视场切换,提高对准效率和套刻精度,同时兼容CCD成像液晶显示功能。
控制系统

电气控制采用工控机,人机界面操作菜单清晰,操作方便,汞灯电源易于触发,可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造,提高了设备的稳定性、可靠性,同时提供个性化服务。



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