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中电科集团公司第四十五研究所

晶圆颗粒生产加工服务;集成电路专用设备、电子元器件设备及光电器件设备、电子工业...

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光刻机
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产品: 浏览次数:244光刻机 
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最后更新: 2018-06-11 11:27
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详细信息

SB-402双面曝光机(光刻机)主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统(MEMS)等制作的双面对准和曝光。最大兼容4英寸晶圆。

主要技术特点


对准工作台:
高精度薄型精密双层三维对准工作台,采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构,保证了工作台的直线性和旋转精度。
机械手机构:
机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构,具有高的定位精度和重复精度。
上版架系统:
上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨,驱动采用高分辨率的数显微分头,从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。
对准观察系统:
双光路结构的卧式分离视场显微镜,可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能
电气控制系统:
整机采用PLC+触摸屏控制,提供运行状态显示及多种检测功能,易于操作,控制精度高,性能稳定。
曝光系统:
上、下两套独立的紫外光曝光系统,采用先进的结构方案,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
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