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SB-402双面曝光机（光刻机）主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS）等制作的双面对准和曝光。最大兼容4英寸晶圆。
主要技术特点
对准工作台：
高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。
机械手机构：
机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构，具有高的定位精度和重复精度。
上版架系统：
上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨，驱动采用高分辨率的数显微分头，从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。
对准观察系统:
双光路结构的卧式分离视场显微镜，可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能
电气控制系统：
整机采用PLC+触摸屏控制，提供运行状态显示及多种检测功能，易于操作，控制精度高，性能稳定。
曝光系统：
上、下两套独立的紫外光曝光系统，采用先进的结构方案，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。